テラビット記録へ向けてのチャレンジ -IDEMA JAPAN-

フォーラム・セミナー

  1. TOP
  2. フォーラム・セミナー
  3. 2008年10月17日(金) テラビット記録へ向けてのチャレンジ

クォータリーセミナー

テラビット記録へ向けてのチャレンジ

HDDのさらなる大容量化を目指し、面記録密度向上に向けた種々の新技術が提案されています。
既に現行の垂直記録方式で業界最大の面記録密度610Gbit/in2の達成が発表され、実用化が期待されています。
さらに大容量化するため、1Tbit/in2が当面の目標とされ、これを達成するためには現行技術の改良で実現可能なのか、または新規技術の採用が不可欠なのかが注目されています。

先ずは、面記録密度610Gbit/in2を可能にした要素技術をご紹介いただき、つづいて1Tbit/in2を達成するために必要な最新技術を紹介します。
一方、1Tbit/in2以上の面記録密度実現には革新的な技術が必要と考えられています。
これに向けた次世代CPP-GMRヘッド、熱アシスト記録ヘッド、パターンド媒体などの次世代技術の現状をご紹介いただくとともに、次世代ナノインプリント装置技術、潤滑材、EB描画装置など、実用化に向けた生産技術もあわせて展望いたします。
是非、多くの方々に参加いただき、積極的なご議論、有益な情報収集等を行って頂ければと思います。

このセミナーでは、講演聴講による業界情報の収集のみならず、講演終了後は講師の方々を囲んでの懇親会やスポンサー企業による機器展示もございます。
ご出席者相互の親睦・情報交換・人的ネットワークの拡大等にご活用いただけますよう、大勢の皆様のご参加を心からお待ちしております。

日 時
2008年10月17日(金) 13:00〜17:00(終了後、懇親会)
場 所
発明会館

〒105-0001 東京都港区虎ノ門2-9-14 地図
<交通>
東京メトロ 銀座線 虎ノ門駅 3番出口/徒歩5分
東京メトロ 日比谷線 神谷町駅 4番出口/徒歩6分
東京メトロ 千代田線 霞が関駅 A13番出口/徒歩10分

参加費
IDEMA会員 一般(非会員)
10月17日(金) 20000円 40,000円
13:00-13:10

開催挨拶

IDEMA JAPAN 会長
IT総研
久保川昇 氏
13:10-13:40

高密度垂直磁気記録への取り組み -610Gbit/in2級記録密度実現へ向けて

株式会社 日立製作所 中央研究所
ストレージシステム研究部
部長
井手浩 氏

垂直磁気記録での更なる記録密度の向上を目指した検討を行い、610Gbit/in2級の記録密度に関する技術的な見通しを確認した。本講演ではその媒体、ヘッド、R/W技術の概要を中心に報告する。

13:40-14:10

CoMnSiホイスラー合金 CPP-GMR素子の電気輸送特性と磁気特性

TDK株式会社
浅間テクノ工場 SQ研究所
水野友人 氏

低抵抗Cuスペーサーを用いたCPP-GMR素子のMR比改善のために、CoMnSiホイスラー合金を磁性層に用いた場合のMR比と組成比の依存性について研究し、これを報告する。

14:10-14:40

マイクロ波アシスト記録における反転ダイナミクス

東北大学
多元物質科学研究所
准教授
岡本聡 氏

単純化したモデルでのLLG計算を基にマイクロ波アシスト記録における磁化ダイ ナミクスを説明し、それから想定される課題と特徴について解説する。

14:40-15:00

休憩

15:00-15:30

パターンド媒体の加工ダメージ評価

株式会社東芝 研究開発センター
記憶材料・デバイスラボラトリー
研究主務
鎌田芳幸 氏

パターンド媒体実用化の為にはエッチングダメージの見積もりが重要となる。 本講演ではエッチングダメージを静磁気特性、結晶構造、スイッチング磁界分散の観点から評価した結果を紹介する。

15:30-16:00

次世代ハードディスク用ナノインプリント装置技術

モレキュラー・インプリンツ・インク 日本支店
Applications Engineering Manager
和田英之 氏

パターンドメディア製造のためのパターニング技術としてナノインプリントの適用が評価されている。 Molecular Imprints では量産に向けた、低コスト・高スループットの両面インプリント装置の開発を行っており、その技術の現状を紹介する。

16:00-16:30

分子構造の異なる極薄膜潤滑膜の吸着形態
-AFMによる観察と分子動力学計算による検討-

関西大学システム理工学部 機械工学科
准教授
谷弘詞 氏

磁気ディスク上で構造の異なる潤滑剤(Z-dol、Z-tetraol、TA-30など)がどのような吸着形態を示しているか、AFMにより観察し分子動力学計算と比較した。その結果、分子構造で物理膜厚・被覆率が異なることを確認した。

16:30-17:00

【Creating Greater Capacity on Smaller Spaces】
-Electron Beam Recorders for Mastering and NanoImprint
Lithography for HVM-Production of Patterned Magnetic Media-

bducat社
CTO
Babak Heidari 氏

The smaller the magnetic bits are the larger becomes the risk for superparamagnetic relaxation. A way to circumvent this is to shift to patterned media, where discrete track recording (DTR) and bit-patterned media (BPM) are the most promising technologies. Patterning magnetic media is expected to allow data densities up to 20 Tb/in2. Manufacturing of such discs can be realized using an electron beam recorder for production of a master stamp and nanoimprint lithography for replication on glass or aluminum disks.
The process used for replication magnetic media disks via nanoimprinting is based on a two-step imprint process comprising the generation of an intermediate polymer stamp (IPS(r)) and a simultaneous thermal and UV imprint process (STU(r)). Both imprint tool and process are capable for high volume manufacturing and the combination of EBR-mastering with NIL enables high volume manufacturing with 600 double-sided disks/hour. Our soft-press(r) technology guarantees residual layers below 20 nm across the entire substrate being important for subsequent pattern transfer. Already today we can master patterned magnetic media with a linewidth down to 30 nm and reproduce the master patterns with our proprietary IPS(r)-STU(r) process on HDD-substrates.

17:10-

懇親会

※講師・演題・講演時間など、変更になる場合がございます。あらかじめご了承願います。